CMP 全称为 Chemical MechanicalPolishing，即化学机械抛光。CMP技术是晶圆制造的必须流程之一，对高精度、高性能晶圆制造至关重要。
抛光液是超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物，为均匀分散的乳白色胶体，起到研磨、腐蚀溶解等作用，主要原料包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等。
电子级硅溶胶,CMP硅溶胶,CMP抛光液,硅溶胶
2023-07-05 15:24 112.26.188.158 2次
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